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低壓真空滲碳爐是專門用來做真空滲碳淬火工藝的爐子，它不同于傳統真空爐將零件裝爐后，抽到高真空，然后再加熱到滲碳溫度，通入少量的滲碳氣體進行滲碳，通常滲碳時在5-20毫巴的低真空下進行，因此稱其為低壓真空滲碳工藝，滲碳結束后進行淬火得到馬氏體為主的組織。傳統真空爐是在無氣體的真空環境下工作，將零件進行加熱、保溫和冷卻，來實現熱處理工藝，一般可做無氧化的淬火、退火等工藝。真空度相對較高。低壓真空滲碳爐是(shi)在低壓真空狀(zhuang)態下，通過(guo)(guo)(guo)多次(ci)強滲(shen)+擴(kuo)散過(guo)(guo)(guo)程，以達到零件滲(shen)層深度要求的(de)(de)工藝過(guo)(guo)(guo)程，其控制方法為“飽(bao)和(he)值調(diao)整(zheng)法”。即在強滲(shen)期使奧氏體(ti)固(gu)溶碳(tan)(tan)飽(bao)和(he)，在擴(kuo)散期固(gu)溶的(de)(de)碳(tan)(tan)向內部擴(kuo)散到目(mu)標的(de)(de)要求值，通過(guo)(guo)(guo)調(diao)整(zheng)滲(shen)碳(tan)(tan)、擴(kuo)散時間比，達到控制表(biao)面(mian)碳(tan)(tan)濃度和(he)滲(shen)碳(tan)(tan)層深度的(de)(de)目(mu)的(de)(de)。其優點是(shi)：

1.無內氧化(hua)，能(neng)顯著提高零件(jian)表面疲勞性能(neng)。

2.處理后畸變小。

3.計算機控(kong)制，滲碳(tan)精度高。

4.處理后產品表面呈光亮狀(zhuang)，可不經清洗、噴(pen)丸工序(xu)。